Deskripsi:
Power supply pulsa ini mengadopsi IGBT beralih rectifier, teknologi helikopter PWM, DSP mikro teknologi kontrol digital dan sistem operasi layar sentuh. Catu daya electroplating pulsa memiliki fungsi pengendali pulsa DC tunggal, pulsa DC ganda tegangan konstan otomatis arus konstan dan otomatis. Pulsa amplitudo kontinu dan disesuaikan, rasio kewajiban pulsa dan frekuensi juga dapat disesuaikan. Kekuatan pulsa supply menyediakan baik antarmuka manusia-komputer dengan visibilitas yang baik. Catu daya electroplating pulsa dapat menyimpan dan merekam berbagai kurva proses real-waktu secara otomatis, seperti elektroplating arus, tegangan dan suhu mandi. Hal ini juga dapat menyimpan dan memanggil beberapa set parameter proses. Dengan otomatisasi yang tinggi, ini power supply pulsa dapat sangat meningkatkan kelancaran, kekompakan dan ketahanan korosi dari lapisan film electroplating. Catu daya electroplating pulsa dapat porositas juga lebih rendah, menghilangkan hidrogen embrittlement, meningkatkan kualitas produk 'lapisan electroplating dan menyimpan banyak logam langka. Hal ini banyak digunakan di perusahaan-perusahaan seperti penerbangan, kedirgantaraan, senjata dan kapal, dll Hal ini pasokan listrik pulsa juga digunakan sebagai power supply elektroplating pulsa penyearah dari elektroplating emas, perak, paladium, titanium dan logam mulia lainnya di lembaga penelitian ilmiah.
Pulse Power Supply | 3P AC380V, 400V, 450V, dll frekuensi (50Hz) |
Nilai Tegangan Output | 6V, 12V, 15V, 18V, 24V, 36V, tegangan spesifikasi |
Nilai Output Current | 500mA, 1000mA, 2000mA, 5000mA, 10A, 20A, 50A, 100A, 200A, 300A, 500A, 1000A, 1500A, 2000A, 3000A, setiap spesifikasi saat ini |
Lembut Waktu Mulai Kerja | 0 sampai 200-an |
Kontrol Akurasi | ≤ ± 1% |
Pulsa Rentang Pace Frekuensi | 1000 untuk 8000Hz |
Mode operasi | mode operasi lokal atau remote |
Output Mode Kontrol | searah atau dua arah pulsa kontrol keluaran |
Output Konstan Modus Kontrol | mode kontrol tegangan arus konstan atau konstan |
Pulsa Tahap-Shifting Resolusi | ≤1μs |